氦质谱检漏仪在半导体设备的运用

    氦质谱检漏仪在半导体设备的运用

 半导体设备真空体系出现毛病一般分为两类：一是真空泵组及丈量体系的毛病，另一个是真空体系的走漏。关于第一类毛病，检测真空泵的极限真空度或更换好的真空计就可以确认。关于第二类毛病则需要检漏。在对半导体设备检漏时常运用两种办法：静压检漏法和氦质谱检漏法。静压检漏法就是用阀门将真空室与真空泵组隔开，丈量其内部压强的变化。氦质谱检漏法要复杂一些。

  氦质谱检漏仪一般需要拿到现场去，检漏仪内有分子泵，因此搬运时要轻拿轻放。常常选择检漏仪高灵敏度方式来检漏，这有利于维护分子泵。检漏仪的抽气才能有限，因此常常需要设备自己抽好真空。真空抽到0.5～10Pa就行。比及漏率显示稳定或由稳定转成削减后再开端检漏。